M200 COMPOSI-TIGHT 3D MATRICES GRANDES 100u. es una matriz transparente de uso clínico, ideal para restauraciones estéticas que requieren contención y fotopolimerización precisa.
DISPOSA SHIELD Nº4 FUNDA CABEZAL 250uds es un sistema de protección desechable para equipos odontológicos, diseñado para cubrir superficies críticas durante el trabajo clínico.
BANDA MATRIZ TOFFLE es una matriz metálica para restauraciones dentales, diseñada para mantener el contorno y contacto proximal en cavidades interproximales.
MASCARILLAS RECTANGULARES 4 CAPAS VERDE 50u. es una mascarilla desechable para uso clínico, diseñada para proteger frente a fluidos, aerosoles y contaminantes biológicos.
8992.08 MATRICES 5mm. es una matriz metálica para restauraciones dentales, diseñada para mantener el contorno y contacto proximal en cavidades interproximales.
COMPOSI-TIGHT 3D XR MATRICES 6,0mm. 60u. es una matriz transparente de uso clínico, ideal para restauraciones estéticas que requieren contención y fotopolimerización precisa.
MASCARILLAS RECTANGULARES NARANJAS 50u. es una mascarilla desechable para uso clínico, diseñada para proteger frente a fluidos, aerosoles y contaminantes biológicos.
COVER-ALL FUNDAS UNIVERSAL AZUL 10,2x15,2cm. 1200u. es un sistema de protección desechable para equipos odontológicos, diseñado para cubrir superficies críticas durante el trabajo clínico.
MASCARILLAS RECTANGULARES ROSA 50u. es una mascarilla desechable para uso clínico, diseñada para proteger frente a fluidos, aerosoles y contaminantes biológicos.
FUNDA JERINGA 6,4x25,4cm. 500u. es un sistema de protección desechable para equipos odontológicos, diseñado para cubrir superficies críticas durante el trabajo clínico.
HALO ORIGINAL, SISTEMA DE MATRIZ SECCIONAL, SIN INSTRUMENTOS es una matriz metálica para restauraciones dentales, diseñada para mantener el contorno y contacto proximal en cavidades interproximales.
COMPOSI-TIGHT 3D XR MATRICES 6,6mm. 100u. es una matriz transparente de uso clínico, ideal para restauraciones estéticas que requieren contención y fotopolimerización precisa.
